N2 GAS SUPPLY SYSTEM

N₂개스공급 공정은 소형 반도체 공장의 경우 액화가스 저장 설비를 갖추고 상설 가스 공급 회사로부터 액화가스를 공급받아 사용하고 있으나, 대형 반도체 공장에서는 비용 절감을 위하여 N₂ Gas 생산 설비인 General Gas Plant를 설치 운영하기도 한다.
개스 공급 시스템에서 공급되는 개스의 압력은 배관의 길이, 높이 부속 등에서 발생하는 Pressure Drop을 고려하여 공급하며, 최고압력으로 공급될 수 있도록 Regulator를 설치하여 운영한다.
Purifier는 상설 가스 공급 회사로부터 어느 정도 고순도화하여 공급하고 있으나 제조 과정 및 용기의 보관, 운송, 교환 등에서 오염 가능성이 있으므로 사용처에서 초고순도 개스가 요구될 때 설치한다. 개스의 정제 방식으로는 저온 흡착식, 촉매방식, Palladium 투과막식의 3가지 방식을 주로 사용한다.
필터는 개스의 공급 라인중에 부유물을 제거하여 Use Point에서 요구하는 청정도가 높은 개스를 공급하기 위한 장치로서 개스 공급 라인 가운데 통상 3Point를 설치한다. 1차 필터의 설치 목적은 원료 개스중의 부유물을 제거하고, 2차 필터의 설치 목적은 배관중의 부유물을 제거하며, 3차 필터의 설치 목적은 최종적으로 파티클 규제를 보증하기 위해 설치한다.

N₂Gas Supply System 구성도